Правительство Российской Федерации

Федеральное государственное автономное образовательное учреждение высшего профессионального образования
"Национальный исследовательский университет
"Высшая школа экономики"

Московский институт электроники и математики Национального

исследовательского университета "Высшая школа экономики"

Факультет Электроники и телекоммуникаций

Программа дисциплины

«Технология и оборудование получения тонких пленок»

для направления 210100.68 «Электроника и наноэлектроника» подготовки магистра

Автор программы:

,д. т.н., профессор, *****@***ru

Одобрена на заседании кафедры

«Электроника и наноэлектроника» «____»____________ 2013г.

Зав. кафедрой ____________________

Рекомендована профессиональной коллегией

УМС по электронике «____»____________ 2013г.

Председатель _______________________

Утверждена Учёным советом МИЭМ «____»_____________2013г.

Ученый секретарь __________________

Москва, 2013

Настоящая программа не может быть использована другими подразделениями университета и другими вузами без разрешения кафедры-разработчика программы.

2  Область применения и нормативные ссылки

Настоящая программа учебной дисциплины устанавливает минимальные требования к знаниям и умениям студента и определяет содержание и виды учебных занятий и отчетности.

Программа предназначена для преподавателей, ведущих данную дисциплину, учебных ассистентов и студентов направления подготовки 210100.68 «Электроника и наноэлектроника» подготовки магистров изучающих дисциплину «Технология и оборудование получения тонких пленок».

НЕ нашли? Не то? Что вы ищете?

Программа разработана в соответствии с:

. Образовательным стандартом федерального государственного автономного образовательного учреждения высшего профессионального образования «Национальный исследовательский университет “Высшая школа экономики”» МИЭМ для направления 210100.68 «Электроника и наноэлектроника» подготовки магистра.

. Образовательной программой «Конструирование технических систем микро - и нанотехнологий».

. Рабочим учебным планом университета по направлению 210100.68 «Электроника и наноэлектроника» подготовки магистра; утвержденным в 2012г.

3  Цели освоения дисциплины

Целями освоения дисциплины «Технология и оборудование получения тонких пленок» являются: изучение теоретических и прикладных основ технологии формирования тонких пленок, оборудования для нанесения тонких пленок на подложки.

4  Компетенции обучающегося, формируемые в результате освоения дисциплины

В результате освоения дисциплины студент должен:

·  Знать: Области применения технологий нанесения тонких пленок, физические основы формирования тонкопленочных покрытий, способы нанесения тонких пленок, вакуумные системы технологического оборудования.

·  Уметь : оценивать скорость распыления материалов и степень загрязнения покрытий.

·  Владеть: представлениями о возможностях современного технологического оборудования.

В результате освоения дисциплины студент осваивает следующие компетенции: ОК-10, ПК - 1,2,3,18,19,20,21.

5  Место дисциплины в структуре образовательной программы

Для направления 210100.68 «Электроника и наноэлектроника» подготовки магистра дисциплина «Технология и оборудование получения тонких пленок» является дисциплиной по выбору.

Изучение дисциплины «Технология и оборудование получения тонких пленок» базируется на следующих дисциплинах:

. Вакуумная и криогенная техника

. Материалы электронной техники

Данная дисциплина является предшествующей для изучения физических основ микроэлектроники, основ технологии электронной компонентной базы, вакуумной и плазменной электроники, физических основ ионно-плазменной технологии.

5.Тематический план учебной дисциплины.

Название темы

Всего часов по дисциплине

Аудиторные часы

Самостоя-тельная работа

Лекции

Семинары

Практич. занятия

1

Введение. Предмет дисциплины и ее задачи. Тонкие пленки в микроэлектронике.

15

1

4

10

2

Механизм формирования тонкопленочных покрытий. Факторы влияющие на свойства пленок.

31

1

6

24

3

Получение покрытий равномерной толщины. Подготовка подложек. Требования к вакуумно-техническим параметрам установок

28

2

6

20

4

4 Нанесение пленок методом термического испарения. Конструкции испарителей с резистивным и электронно-лучевым нагревом.

34

2

8

24

5

Нанесение пленок методом ионного распыления.

29

1

8

20

6

Катодное и ионноплазменное напыление, химическое осаждение тонких пленок.

29

1

8

20

7

Контроль скорости осаждения и толщины тонких пленок.

15

1

4

10

8

Вакуумно-технологическое оборудование для нанесения тонкопленочных покрытий на подложки.

35

3

8

24

Итого:

216

12

52

152

6. Формы контроля знаний студентов

Тип контроля

Форма контроля

Модуль

Параметры

Текущий

контроль активности на семинарах

1

ответы на вопросы, решение задач, участие в дискуссиях

Промежуточный

зачет

2

Защита домашних заданий

Итоговый

экзамен

2

ответы на вопросы в билете

7.Порядок формирования оценок по дисциплине

-  текущий контроль предусматривает учет активности студентов в ходе проведения лекций, практических занятий, участие в дискуссиях, консультации с преподавателями по выбору тематики домашних занятий и т. п.;

-  промежуточный контроль предусматривает защиту домашнего задания;

-  итоговый контроль проводится в форме ответа на вопросы в билете

Итоговая оценка формируется как взвешенная сумма оценки, накопленной в течение курса, и оценки зачетную работу.

Накопленная оценка (НО) (максимум 10 баллов) включает оценку за работу на лекциях и практических занятиях (Олекц. практ.) и подготовку и защиту домашнего задания (Од. з.) и формируется по следующему правилу:

НО=0,5Олекц. практ..+0,5Од. з.

Итоговый экзамен(ИЭ) (максимум 10 баллов): ответ на вопросы в билете

Итоговая оценка (ИО) (максимум 10 баллов) по курсу определяется с учетом накопленной оценки (с весом 0,4) и оценки за экзамен в конце курса (с весом 0,6) по следующей формуле:

ИО=0,4*НО + 0,6*ИЭ

Все округления производятся в соответствии с общими математическими правилами.

Оценки за курс определяются по пятибалльной и десятибалльной шкале.

Количество набранных баллов

Оценка по десятибалльной шкале

Оценка по пятибалльной шкале

9,5-10

10

отлично

8,5-9,4

9

отлично

7,5-8,4

8

отлично

6,5-7,4

7

хорошо

5,5-6,4

6

хорошо

4,5-5,4

5

удовлетворительно

3,5-4,4

4

удовлетворительно

2,5-3,4

3

неудовлетворительно

1,5-2,4

2

неудовлетворительно

0–1,4

1

неудовлетворительно

Критерии оценки знаний, навыков

Активность на лекциях и практических занятиях оценивается по следующим критериям:

·  Ответы на вопросы, предлагаемые преподавателем;

·  Решение задач у доски;

·  Участие в дискуссии по предложенной проблематике.

8.Разделы дисциплины и междисциплинарные связи с обеспечиваемыми ( последующими ) дисциплинами.

п/п

Наименование обеспечиваемых дисциплин

№№ разделов данной дисциплины необходимых для изучения обеспечиваемых дисциплин

1

2

3

4

5

1

Основы проектирования электронной компонентной базы

1

2

4

6

8

2

Физические основы ионно-плазменной технологии

2

3

5

8

3

Физика поверхности и материаловедение тонких пленок

2

3

9. Учебно-методическое и информационное обеспечение дисциплины:

а) основная литература: «Вакуумная техника», , «Высшая школа», М.2007;

«Справочник по вакуумной технике и технологиям», под ред. Д. Хоффман, Б. Сингха, Дж. Томаса, «Техносфера», М., 2011; , «Вакуумная техника»,справочник, М., изд-во «Машиностроение»2009.

б) дополнительная литература: «Технология тонких пленок», Л. Майссел, Р. Гленг, М., изд-во « Советское радио»,1977

«Нанесение пленок в вакууме», , М.,изд-во «Высшая школа»,1089 «Получение тонкопленочных элементов микросхем», , М., изд-во «Эне7.

ргия», !977.

«Термическое испарение в вакууме при производстве изделий радиоэлектроники», , М., изд-во «Радио и связь»,1986.

в) rvs.insoft.ru, iuvsta.org,

9. Материально-техническое обеспечение дисциплины: лаборатория вакуумной техники

10.Методические рекомендации по организации изучения дисциплины: Теоретические основы вакуумной техники, получение вакуума, вакуумные установки, метрология, материалы электронной техники. Выполнение и защита домашних заданий.

Автор программы __________________ проф.