Технология и оборудование плазменной обработки
1. Классификация плазматронов. Плазматроны дуговые.
2. Основные понятия, характеризующие состояние плазмы в плазменных устройствах: степень ионизации, радиус Дебая.
3.Классификация плазматронов. Плазматроны безэлектродные.
4.Основные понятия, характеризующие состояние плазмы в плазменных устройствах: локальное термодинамическое равновесие, частичное термодинамическое равновесие.
5. Электроды дуговых плазматронов, их работоспособность.
6. Основные понятия, характеризующие состояние плазмы в плазменных устройствах: уравнение Саха.
7. Конструкционные схемы дуговых плазматронов. Плазматроны с газовой стабилизацией.
8. Основные понятия, характеризующие состояние плазмы в плазменных устройствах: уравнения движения плазмы.
9. Плазматроны на переменном токе
10. Основные понятия, характеризующие состояние плазмы в плазменных устройствах: механизмы ускорения плазмы.
11. Безэлектродные генераторы плазмы.
12. Основные характеристики плазматронов: вольтамперная характеристика.
13. Конструкционные схемы дуговых плазматронов. Плазматроны со стабилизацией стенкой.
14. Основные характеристики плазматронов: система уравнений плазмы дугового разряда.
15. Конструкционные схемы дуговых плазматронов. Плазматроны с магнитной стабилизацией.
16. Основные характеристики плазматронов: термоэлектронная и автоэлектронная эмиссия.
17. Вакуумно-плазменные технологии. Вакуумные дуговые устройства для нанесения покрытий.
18. Основные характеристики плазматронов: шунтирование разряда.
19. Вакуумно-плазменные технологии. Катодное распыление вещества.
20. Электроды дуговых плазматронов, их работоспособность.
21. Вакуумно-плазменные технологии. Электроннолучевое распыление вещества.
22. Основные понятия, характеризующие состояние плазмы в плазменных устройствах: степень ионизации, радиус Дебая.
23. Вакуумно-плазменные технологии. Ионная имплантация.
24.Основные понятия, характеризующие состояние плазмы в плазменных устройствах: локальное термодинамическое равновесие, частичное термодинамическое равновесие.
25. Микродуговое оксидирование. Получение керамических покрытий на изделиях из вентильных металлов.
26. Основные характеристики плазматронов: вольтамперная характеристика, термоэлектронная и автоэлектронная эмиссия, шунтирование разряда.
27. Конструкционные схемы дуговых плазматронов. Плазматроны со стабилизацией стенкой.
28. Основные понятия, характеризующие состояние плазмы в плазменных устройствах: уравнения движения плазмы.
29. Электроды дуговых плазматронов, их работоспособность.
30. Основные понятия, характеризующие состояние плазмы в плазменных устройствах: уравнения движения плазмы.
31. Конструкционные схемы дуговых плазматронов. Плазматроны с газовой стабилизацией.
32. Основные понятия, характеризующие состояние плазмы в плазменных устройствах: степень ионизации, радиус Дебая.
