Ю. М. ГАСПАРЯН, А. А. ПИСАРЕВ, И. В. ЦВЕТКОВ, С. С. ЯРКО
Московский инженерно-физический институт (государственный университет)
МОДЕЛИРОВАНИЕ ПРОНИЦАЕМОСТИ ВОДОРОДА ЧЕРЕЗ ОБРАЗЦЫ ВОЛЬФРАМА С УГЛЕРОДНОЙ ПЛЕНКОЙ
На основании данных новейших экспериментов разработана динамическая модель проницаемости водорода через образцы вольфрама с углеродной пленкой. Модель учитывает процессы распыления пленки атомами пучка, внедрение водорода на глубину по данным TRIM, эффективное снижение рекомбинационного потока с поверхности вольфрама покрытого слоем пленки, компонентный состав пучка: ионы и нейтралы, диффузию и ловушки. Произведены расчеты, соответствующие экспериментальным условиям, и выявлены оптимальные значения параметров, для которых наблюдается хорошая воспроизводимость результатов эксперимента. Показано влияние на проницаемость скорости распыления, неоднородности толщины пленки, пучка и параметров рекомбинации.
Е. Д. МАРЕНКОВ, И. В. ЦВЕТКОВ, А. А. ПИСАРЕВ
Московский инженерно-физический институт (государственный университет)
ПРОНИЦАЕМОСТЬ ВОДОРОДА ЧЕРЕЗ МНОГОСЛОЙНЫЕ МЕМБРАНЫ
Проницаемость водорода через многослойные мембраны представляет интерес для ряда приложений, в частности, является важной задачей для анализа утечек трития через конструкционные материалы в термоядерных реакторах. В данной работе рассмотрена проницаемость через многослойную мембрану в стационарном режиме.
Предложен алгоритм получения решения в общем случае и получены аналитические решения для проницаемости и коэффициента уменьшения проницаемости в четырех предельных случаях. Проанализировано влияние различных свойств многослойных защитных покрытий на величину проникающего потока.
А. С. МЕТЕЛЬ, С. Н. ГРИГОРЬЕВ, Ю. А. МЕЛЬНИК,
В. В. ПАНИН, В. В. ПРУДНИКОВ
Московский государственный технологический университет «Станкин»
РАСПЫЛЕНИЕ МИШЕНИ ИОНАМИ ИЗ ПЛАЗМЫ
ТЛЕЮЩЕГО РАЗРЯДА С ПОЛЫМ КАТОДОМ
В НЕОДНОРОДНОМ МАГНИТНОМ ПОЛЕ
В новом источнике металлического пара плоская мишень диаметром 80 мм и толщиной 15 мм, установленная на дне изолированного от нее полого катода диаметром 120 мм и глубиной 70 мм, распыляется ионами аргона с энергией 1 – 4 кэВ. Постоянный магнит создает неоднородное магнитное поле с индукцией на распыляемой поверхности мишени до 20 мТл, силовые линии которого расходятся от мишени и пересекают поверхность катода. При давлении 0,05 Па и токе катода 1 А ток в цепи мишени составляет 0,6 – 0,8 А при разрядном напряжении между катодом и рабочей камерой 300 – 500 В. При токе в цепи мишени 0,5 А и энергии распыляющих ее ионов аргона 3 кэВ скорость осаждения покрытия на подложку, удаленную от мишени на 0,11 м, составляет 5 – 10 мкм/ч.
Д. К. КОГУТ, Н. Н. ТРИФОНОВ
Московский инженерно-физический институт (государственный университет)
МОДЕЛИРОВАНИЕ ИЗМЕНЕНИЯ РЕЛЬЕФА ПОВЕРХНОСТИ
ПОД ДЕЙСТВИЕМ ИОННОГО ОБЛУЧЕНИЯ
В работе представлена модификация кода SCATTER, основанного на модели парных соударений, позволяющая моделировать изменение произвольного двухмерного рельефа поверхности твёрдого тела под действием ионной бомбардировки. Проведено моделирование облучения поверхности бериллия ионами дейтерия с различной начальной энергией. Рассмотрены варианты поверхности в виде конуса, канавки и щели. Показано, что переотраженные частицы могут вносить существенный вклад в изменения рельефа поверхности.
Л. Б. БЕГРАМБЕКОВ, Н. В. ВЛАСЮК, А. А. ГОРДЕЕВ,
А. Ф. СКРИПИЦЫН
Московский инженерно-физический институт (государственный университет)
ОСАЖДЕНИЕ В ПЛАЗМЕ И ИССЛЕДОВАНИЕ
ТОНКИХ СЛОЕВ Cu-Fe и Cu-W
В работе приведены результаты экспериментального исследования закономерностей осаждения в плазме двухфазных слоев Сu-W и сравнительный анализ особенностей роста слоев Cu-W и Cu-Fe. Характер формирования слоев изучался в зависимости от температуры подложки, концентрации компонентов и их толщины. Основные стадии эволюции слоев Cu-Fe и Cu-W оказались одинаковыми: однородный слой - мелкие островки - рост глобул - новое поколение островков. Однако условия их появления и характер развития существенно менялись при замене тугоплавкого компонента. Обсуждаются механизм формирования осаждаемого в плазме двухфазного слоя и влияние тугоплавкого компонента на характер его зарождения и развитие.
