Партнерка на США и Канаду по недвижимости, выплаты в крипто
- 30% recurring commission
- Выплаты в USDT
- Вывод каждую неделю
- Комиссия до 5 лет за каждого referral

Рис. 26. Распределение носителей заряда в приконтактной области при положительном (кривая 1) и отрицательном (кривая 2) включениях pn перехода
Как видно из (47), уравнение непрерывности свелось к диффузионному уравнению и, следовательно, ток вблизи барьера в n-области будет, в основном, диффузионным. Из рис. 26 видно, что при положительном и отрицательном смещении градиент концентрации вблизи перехода имеет разный знак и, соответственно, при положительном смещении диффузионный ток направлен от перехода вглубь n - орбласти (имеет место инжекция неосновных носителей заряда), при отрицательном смещении направление тока изменяется на противоположное и происходит вытягивание неосновных носителей заряда.
Рассчитаем плотность дырочного тока, проходящего через барьер при x = 0:
(52)
Совершенно аналогично, решая диффузионное уравнение для n области, можно получить плотность электронного тока (при этом все значки "p" изменяются на "n", значки "n" изменяются на "p"):
(53)
Поскольку перенос тока через барьер осуществляется только электронами и дырками и должно сохраняться условие постоянства тока по всей длине образца, для полного тока получим:
(54)
Формула (54) описывает зависимость тока через pn переход от приложенного к нему напряжения, т. е. статическую вольтамперную характеристику pn перехода.
На рис. 26 в линейном (слева) и логарифмическом (справа) масштабах показана вольтамперная характеристика pn перехода, рассчитанная по формуле (54) при UT = 0.025 В и Js = 10-6 A. Как видно из графиков, прямой ток на несколько порядков выше обратного, т. е. pn переход обладает хорошими вентильными свойствами: пропускает ток в одном направлении и практически не пропускает в другом. Физический смысл вентильного поведения pn перехода понятен из формулы (54): при U>0 доминирует первый член - Jsexp(U/UT), соответствующий диффузионному току основных носителей в соседнюю область. Этот ток контролируется высотой барьера, который снижается приложенным к переходу прямым напряжением.

Рис. 26. Вольт-амперная характеристика pn перехода (слева в линейном масштабе, справа в логарифмическом): 1 - при прямом включении, 2 - при обратном.
Экспоненциальная зависимость следует из больцмановского распределения электронов по энергии. Действительно, чем выше барьер, тем меньшее количество электронов может его преодолеть. Этот ток состоит из электронной и дырочной компонент, соотношение между которыми зависит от соотношения между токами Jsp и Jsn и определяется электропроводностью и временем жизни неосновных носителей заряда в соответствующих областях. Действительно, используя соотношения (18) и (26), из (52) и (53), получим:
(55)
Таким образом, если p область легирована значительно сильнее, Na>>Nd и, соответственно, σp>>σn, то при близких значениях времен жизни Jsp>>Jsn, и ток через переход будет создаваться преимущественно дырками, причем величина этого тока зависит от величины прямого смещения. Таким образом, создав в кристалле pn переход, мы формируем потенциальный барьер, который дает средство для управления током. Изменяя степень легирования областей, мы можем задавать условия для преимущественного протекания через барьер электронных или дырочных потоков. Именно эти свойства избирательного управления потоками носителей заряда легли в основу большей части биполярных приборов.
При значительном обратном смещении высота барьера настолько велика, что тепловой энергии для преодоления барьера становится недостаточно, и тогда в уравнении (54) начинает доминировать второй член: Js = Jsn + Jsp. Этот член соответствует потоку неосновных носителей заряда, встречному по отношению к только что рассмотренному диффузионному потоку основных носителей заряда. Для создающих обратный ток перехода неосновных носителей нет барьера и поэтому те из них, которые дошли до перехода, подхватываются электрическим полем и перебрасываются в соседнюю область. Именно отсутствием для этих носителей барьера объясняется то, что в рассмотренной модели обратный ток не зависит от приложенного напряжения. Обратный ток пропорционален концентрации неосновных носителей заряда, темп генерации неосновных носителей определяется температурой, поэтому обратный ток диода часто называют тепловым:
. (56)
Действительно, как следует из (56), обратный ток экспоненциально зависит от температуры. Наличие обратного тока ухудшает вентильные свойства pn перехода, поэтому его стремятся уменьшить, взяв материал с большей запрещенной зоной. Так, например, в переходах на основе Si обратный ток примерно в тысячу раз меньше, чем в переходах на основе Ge. Однако, как следует из (56), хотя сам ток с увеличением Eg уменьшается, но его зависимость от температуры становится сильнее (см. аналогичные температурные зависимости для σi на рис. 8).
Влияние генерационно-рекомбинационных процессов на ВАХ pn перехода.
Из (54) для обратных токов электронов и дырок мы можем написать:

Смысл правой части уравнения (57) заключается в том, что величина обратного тока пропорциональна концентрации неосновных носителей, генерируемых в примыкающих к области пространственного перехода области n и p баз диода на расстоянии диффузионных длин от него. Предполагалось, что генерацией неосновных носителей заряда в обедненной области длиной d можно пренебречь. Это условие справедливо для случая, когда Lp>>d или Ln>>d, или когда высока концентрация pn0 np0, т. е. ширина запрещенной зоны не очень велика (например в Ge). Однако, для таких материалов как Si и GaAs, генерационно-рекомбинационный ток в ОПЗ может быть сравним с током насыщения диода, полученным в диффузионной модели.
Для обратного тока, возникающего за счет генерационно-рекомбинационных процессов в области пространственного заряда, можно записать:

где ni - концентрация носителей заряда в ОПЗ (допускается, что его проводимость близка к собственной), τe - эффективное время жизни электронно-дырочных пар в ОПЗ, d(U) - ширина ОПЗ.
При включении pn перехода в прямом направлении рекомбинация носителей также может иметь существенное значение в широкозонных полупроводниках.
Тема 12. Барьерная емкость pn перехода
Двойной пространственный слой pn перехода напоминает обкладки конденсатора с разнополярным зарядом на них (см. рис. 21, рис. 27). Увеличение обратного напряжения будет приводить к увеличению высоты барьера и, соответственно, к увеличению создающего барьер заряда ОПЗ, т. е. pn переход обладает емкостью, которую принято называть барьерной. Поскольку сопротивление области пространственного заряда велико, структура pn перехода с легированными и потому хорошо проводящими прилегающими областями аналогична структуре плоского конденсатора, в котором в качестве диэлектрика выступает ОПЗ, поэтому для емкости такой структуры можно записать:
(57)
где ε0 - диэлектрическая постоянная, ε - диэлектрическая проницаемость полупроводникового материала, d - ширина ОПЗ.
Для нахождения d(U) и, соответственно C(U), решим уравнение Пуассона, связывающее распределение потенциала в образце с распределением заряда. Рассмотрение проведем для образца единичной площади для случая резкого перехода (см. рис. 21), т. е. будем считать, что при x>0 плотность заряда ρ(x) = qNd, при x<0 плотность заряда ρ(x) = qNa.

Рис. 27. Схема распределение заряда в области ОПЗ
(58)
За ширину ОПЗ будем считать ширину области от - dp до dn, на границах которой напряженность электрического поля принимает нулевое значение, потенциал левой (p) области примем равным нулю, тогда потенциал правой области будет Uк - U, где U - внешнее напряжение, смещающее переход в прямом направлении (U > 0). Таким образом, для граничных условий можем записать:
(59)
Интегрируя (58) при условии (59) в n области (x>0), получим:
(60)
Интегрируя (58) при условии (59) в p области (x<0), получим:
(61)
В точке x = 0 решение, которое дает уравнение (60) и решение, которое дает уравнение (61), должны совпадать, поэтому подставив x = 0 в (60) и в (61) и приравняв их, получим:
(62)
Из условия электронейтральности можно найти:
(63)
Подставляя соответствующие значения для квадратов длин областей ОПЗ из (63) в (62), получим:
(64)
Подставив полученное значение в (57), получим формулу для емкости pn перехода:
(65) .
Полученные зависимости (64) и (65) показывают, что с увеличением обратного напряжения ширина d ОПЗ возрастает, и, соответственно, емкость pn перехода уменьшается, при прямом включении перехода с ростом напряжения ширина ОПЗ уменьшается, а емкость растет.
|
Из за большого объема этот материал размещен на нескольких страницах:
1 2 3 4 5 6 7 8 9 10 11 12 13 14 15 16 17 18 19 20 21 22 23 24 25 26 27 28 29 30 31 32 33 34 35 36 37 38 39 40 41 42 43 44 45 46 47 48 49 50 51 52 |


