УДК 621.316:541.148
Комплексообразование меди (I) в растворах для активации диэлектрических материалов
1, 2*, 1, 1, 2+, 1
1Кафедра физической и коллоидной химии. Уральский федеральный университет им. первого Президента России .
Ул. Мира, 19. г. Екатеринбург, 620002. Россия. E-mail: *****@***ru
2Уральский институт Государственной противопожарной службы МЧС России
Ул. Мира, 22. г. Екатеринбург, 620062. Россия.
________________________________________
* Ведущий направление; +Поддерживающий переписку
Ключевые слова: комплексообразование, хлорид меди, диэлектрические материалы, активация, растворимость
Аннотация
Рассмотрены вопросы создания в беспалладиевых растворах активизирования диэлектрических материалов оптимальных концентраций одновалентной меди.
Введение
Один из перспективных направлений разработки новых технологий производства печатных плат является создание экономичных технологических процессов с использованием беспалладиевой активации диэлектрических материалов перед химической металлизацией.
Результаты и их обсуждение
Целью настоящих исследований являлось изучение возможностей использования растворов на основе меди (I) для активации непроводящих поверхностей перед химической металлизацией, которые обладают достаточной стабильностью и активностью
Растворимость большинства солей, в том числе и монохлорида меди, значительно выше, чем это следует из произведения растворимости, что обусловлено образованием комплексов между анионом и катионом соли.
Для более равномерного распределения частиц активатора (или катализатора) на подложке и характера взаимодействия с подложкой в активирующий раствор необходимо ввести поверхностно-активные вещества.
Таким образом, активирующий раствор должен содержать три основных компонента: хлорид меди (I), комплексообразователь и поверхностно-активные вещества.
При изучении процесса фотоактивации диэлектрических материалов установлено, что минимальное содержание меди на активированной поверхности, необходимой для инициирования химического осаждения меди, составляет (3 ÷ 5)·10-2 г/м2 [1].
В силу технологических особенностей нанесения активатора на поверхность диэлектрика толщина жидкого активирующего слоя не должна превышать 1.2 мкм. Чрезмерное увеличение толщины слоя, а, следовательно, и концентрации активатора ухудшает качество осаждаемого металлопокрытия. Оно становится рыхлым и плохо сцепленным с подложкой.
Исходя из вышесказанного, для обеспечения необходимого количества меди на поверхности (3 ÷ 5)·10-2 г/м2, концентрация меди (I) в растворе должна составлять 0,3–0,5 моль/л. Увеличение растворимости монохлорида меди можно добиться за счет комплексообразования Cu(I) и хлорид-ионами.
По сравнению с медью (II) число растворимых соединений меди (I) невелико. Из всех соединений меди (I) следует выделить хлорид. Однако растворимость хлорида меди (I) в воде при температуре 293 K составляет 0.0062% [2]. Экспериментально установлено, что растворимость хлорида меди (I) значительно увеличивается в растворах, содержащих хлорид – ионы. Поэтому нами было проведено изучение влияния комплексообразования на растворимость хлорида меди (I).
Хлорид меди (I) является трудно растворимым соединением. Произведение растворимости составляет 1.8∙10-7 [3]. В водном растворе реализуется равновесие
(1)
(2)
В отсутствие доноров ионов
, кроме реакции (2), выполняется соотношение:
,
откуда следует
, (3)
где
− равновесная концентрация меди (I) по уравнению (1). Такая концентрация одновалентной меди является, конечно, недостаточной для активации поверхности диэлектрических материалов.
Равновесие реакции (1) может быть нарушено образованием осадка Cu20 [4]
(4)
, т. е. в случае равновесия уравнения (4) должно выполняться соотношение
,
откуда следует
(5)
где KW − ионное произведение воды,
.
,
где
− равновесная концентрация меди (I) по уравнению (4)
На рис. 1 приведены зависимости
и
от величины pH. Видно, что при pH > 3.37 выполняется соотношение
> ![]()
![]() |
Рис. 1. Зависимость
и
от величины pH: 1 –
, 2 – ![]()
Это означает, что в этих условиях осадок CuCl полностью превратится в осадок Cu20
, (6)
а концентрация одновалентной меди в водном растворе в этом случае согласно уравнению (6) станет еще меньше.
Для предотвращения этих нежелательных эффектов в водный раствор вводят избыточное количество хлорид-ионов (добавление HCl, NH4Cl, NaCl), что приводит к уменьшению [Cu+], так как их концентрация в этом случае определяется соотношением
.
Следовательно, переходы CuCl(тв) → Cu2O(тв) могут быть реализованы при более высоких значениях pH. Кроме того, уменьшение концентрации растворимых форм одновалентной меди может быть компенсировано процессами комплексообразования хлоридных комплексов меди (I), которыми в этой ситуации нельзя пренебрегать.
Рассмотрим более детально ионные равновесия, которые протекают в гетерогенной системе CuClТВ − (H2O, HCl)Ж. Использование HCl в качестве донора Cl−ионов эффективно еще и по причине уменьшения pH при введении HCI. Выше было уже показано, что в этом случае затруднено образование осадка Cu2O. Так как в литературе отсутствуют данные об образовании гидроксокомплексов меди (I), то учитываем только образование хлоридных комплексов меди (I). Реализующиеся в этом случае равновесия можно отобразить следующими уравнениями [5]:
(7)
(8)
(9)
(10)
(11)
где с0, с1, с2, с3 – концентрации ионных форм меди (I) в водном растворе соответственно
,
,
,
. Значения констант нестойкости соответствующих комплексов K1, K, K3 и произведений растворимости ПРCuCl(тв), ПРCuOH(тв) взяты из справочной литературы [3,4].
К вышеприведенным уравнениям нужно добавить еще два уравнения материального баланса (по ионам меди и хлору)
(12)
(13)
где S – брутто-концентрация растворимых форм меди (I);
– концентрация HCl в водном растворе, создаваемая экспериментатором. Таким образом, семи уравнениям соответствует семь неизвестных с0, с1, с2, с3,
, S,
, и задача становится корректной.
Уравнение (13) можно представить в виде:
.
Если учесть, что с0, с2, с3 <<
, то окончательно уравнение (13) запишется
![]()
Из уравнения (7) следует
(14)
Из уравнения (8) следует
(15)
Концентрация ионов гидроксида с большей точностью может быть вычислена по формуле
,
В таком случае уравнение (15) запишется в следующем виде:
. (16)
Так как с0 (из 16) >> с0 (из 14), то образование осадка Cu2O в рассматриваемой системе не происходит, и уравнением (8) можно пренебречь (здесь с0 (из 16) и с0 (из 14) − равновесные концентрации
над осадками Cu2O и CuCl соответственно).
С учетом вышеизложенного решение системы уравнений (7) − (13) выглядит следующим образом
![]()
![]()
![]()
![]()
(17)
Уравнение (17) показывает зависимость растворимости хлорида меди (I) в зависимости от концентрации свободных хлорид−ионов.
Нами рассчитаны концентрации всех ионных форм меди (I) в системе хлоридных комплексов при различных концентрациях
−ионов. Данные расчета приведены в табл. 1:
Таблица 1
Зависимость растворимости монохлорида меди (I) иконцентрации ионных форм меди (I) в системе хлоридных комплексов от концентрации свободных хлорид-ионов
Концентрация свободных [ | Концентрация ионных форм, моль/л | Растворимость CuCl, S∙102 моль/л | |||
[ с0 |
с1 |
с2 |
с3 | ||
0.10 | 18.0 | 100 | 0.402 | 0.08 | 0.48 |
0.25 | 7.20 | 100 | 1.00 | 0.48 | 1.48 |
0.50 | 3.60 | 100 | 2.01 | 1.92 | 3.93 |
0.75 | 2.40 | 100 | 3.00 | 4.31 | 7.32 |
1.00 | 1.80 | 100 | 4.02 | 7.69 | 11.70 |
1.25 | 1.44 | 100 | 5.02 | 12.00 | 17.00 |
1.50 | 1.20 | 100 | 6.03 | 17.30 | 23.30 |
2.00 | 0.90 | 100 | 8.04 | 30.80 | 38.80 |
2.50 | 0.72 | 100 | 10.05 | 48.00 | 58.10 |
3.00 | 0.60 | 100 | 12.10 | 69.20 | 81.30 |
3.25 | 0.55 | 100 | 13.10 | 81.20 | 94.30 |
При увеличении концентрации
−ионов концентрация ионов
уменьшается, так как равновесие
сдвигается влево. При этом увеличивается концентрация комплексных соединений меди (I)
и
.
При концентрациях хлорид-ионов от 0.25 до 1 моль/л концентрации ионов
и
практически одинаковы, при более высоких концентрациях
−ионов концентрация комплексного соединения
в 5−6 раз превышает концентрацию
.
Это наглядно видно на концентрационно-логарифмической диаграмме для насыщенных растворов CuCl, где указаны области существования комплексных соединений меди (I). На диаграмме не нанесена область существования CuCl, так как его концентрация по сравнению с другими хлоридными комплексами меди (I) несоизмерима мала (рис. 2).
![]() |
Рис. 2. Концентрационно-логарифмическая диаграмма для насыщенных растворов CuCl:
1 – lg c3, 2 – lg c2
Концентрационно-логарифмическая диаграмма строится в координатах lgC = f (pCl). Преобразованием соотношений равновесных линий
(18)
(19)
(20)
(21)
Таблица 2.
Зависимости
,
,
,
от величины ![]()
|
|
|
|
|
|
0.10 | 1 | -5.74 | -5 | -2.39 | -3.11 |
0.25 | 0.60 | -6.14 | -5 | -1.99 | -2.31 |
0.50 | 0.30 | -6.44 | -5 | -1.69 | -1.71 |
0.75 | 0.12 | -6.62 | -5 | -1.51 | -1.35 |
1.00 | 0.00 | -6.74 | -5 | -1.39 | -1.11 |
1.25 | -0.10 | -6.84 | -5 | -1.29 | -0.91 |
1.50 | -0.18 | -6.92 | -5 | -1,21 | -0.75 |
2.00 | -0.30 | -7.04 | -5 | -1.09 | -0.51 |
2.50 | -0.40 | -7.14 | -5 | -0.99 | -0.31 |
3.00 | -0.48 | -7.22 | -5 | -0.91 | -0.15 |
3.25 | -0.51 | -7.25 | -5 | -0.88 | -0.09 |
Из уравнений (13−16) и табл. 2 видно:
1. Вкладом c0 и c1 в общую концентрацию растворимых форм меди (I) в данном рассматриваемом интервале концентрации хлорид-ионов можно пренебречь.
2. При [
] = 0,28 наблюдается соотношение с2 = с3, т. е. при [
] < 0,5 моль/л растворенные формы меди (I) находятся преимущественно в виде комплекса
, а при
[
] > 0,5 моль/л – соответственно в виде комплекса
.
Нами было проведено определение растворимости монохлорида меди в солянокислых растворах при температуре 298 K. Экспериментальные данные по определению растворимости хлорида меди (I) приведены в табл. 3.
Таблица 3
Экспериментальные данные по растворимости хлорида меди (I) при 298 K в зависимости от концентрации хлористоводородной кислоты
Концентрация HCl, моль/л | 0.105 | 0.265 | 0.539 | 0.823 | 1.117 | 1.420 | 1.733 | 2.388 | 3.085 | 3.692 |
Растворимость CuCl, S∙102, моль/л | 3.3 | 4.4 | 6.2 | 7.5 | 10.5 | 12.5 | 17.3 | 30.0 | 50.0 | 71.5 |
![]() |
Рис.3. Зависимость растворимости CuCl от концентрации свободных хлорид-ионов:
1 – экспериментальные данные; 2 – расчетные данные
Как видно из рис.3, экспериментальные и аналитически рассчитанные данные имеют очень близкие значения.
Источником хлорид-ионов могут быть и другие соединения, например NH4Cl и NaCl. Опытным путем установлена зависимость растворимости хлорида меди (I) от концентрации свободных
−ионов в растворах, содержащих хлористоводородную кислоту, хлорид аммония и хлоридй натрия (табл. 4).
Таблица 4
Растворимость хлорида меди (I) в хлористоводородной кислоте, хлориде аммония и хлориде натрия при температуре 298 K (экспериментальные данные)
Концентрация хлорид-ионов, [ | Растворимость CuCl, S∙102, моль/л | ||
HCl | NaCl | NH4Cl | |
0.10 | 3.3 | 1.0 | 1.0 |
0.25 | 4.4 | 1.5 | 1.4 |
0.50 | 6.2 | 2.9 | 2.5 |
1.00 | 10.5 | 5.4 | 4.5 |
Экспериментальные данные показывают, что растворимость в хлористоводородной кислоте выше, чем в растворах, содержащих NH4Cl и NaCl, практически в 2 раза.
Из этого следует, что увеличение растворимости хлорида меди (I) объясняется не только комплексообразованием иона Си (I) с ионами
, но и величиной pH раствора.
Действительно, в этом случае можно приближенно считать, что pH=7,
. Следовательно,

С другой стороны
.
Откуда следует, что при малых значениях [
] может быть достигнуто соотношение
>
, что приводит к осаждению оксида меди (I). Кроме того, следует учитывать тот факт, что в расчетах вместо активностей использовались концентрации.
Выводы:
1. В водных растворах в присутствии хлорид-ионов растворенные формы меди (I) находится преимущественно в виде комплексов
и
.
2. Установлено, что увеличение растворимости хлорида меди (I) объясняется не только комплексообразованием иона меди (I), но и величиной pH раствора.
3. Экспериментально определена растворимость хлорида меди (I) в присутствии ионов
.
4. Определен состав активирующего раствора, который должен содержать три основных компонента, концентрация которых варьируется в следующих пределах (моль/л):
монохлорид меди - 0,3 - 0,5
хлористоводородная кислота -2,4 -3,1
поверхностно-активные вещества - 0,01 -0,03.
Экспериментальная часть
Концентрацию хлорид-ионов задавали путем введения рассчитанного количества концентрированной соляной кислоты. В приготовленный раствор вводили при перемешивании в избытке CuCl при температуре 325 K. Фотоколориметрическим методов определяли концентрацию одновалентной меди в присутствии 2,2’ – бицинхониновой кислоты на длине волны 560 нм.
Литература
[1] , Китаев поверхностно-активных веществ на процесс фотоактивации диэлектрических материалов. Журнал прикладной химии. 1999. Т. 72 Вып. 8. 1272.
[2] , Ангелов химические вещества. М.: Химия, 1974. 408 с.
[3] Лурье по аналитической химии. М.: Химия, 1971. 144 с.
[4] , Назаренко Е. Ф.. Краткий справочник по химии. Киев: Наукова думка. 1974. 984 с.
[5] Батлер Дж. Н. Ионные равновесия. 1973. 446 с.
Complexing of copper (I) in solutions for activation of dielectric materials
Ludmila Aleksandrovna Brusnitsina1,2*, Elena Ivanovna Stepanovskih1, Tatyana Anatolievna Alekseeva1,2+. Valery Ivanovich Dvoinin1
1Physical Chemistry and Chemistry of Colloids Academic Department. The Ural Federal University named after the first President of Russia B. N. Yeltsin
Mira, 19. Yekaterinburg, 620002. Russia. E-mail: *****@***ru
2The Ural Institute of the State Fire service of the Ministry of Emergency Measures of Russia
Mira, 22. Yekaterinburg, 620062. Russia.
Keywords: сomplexing, copper chloride, dielectric materials, activation, solubility
Abstract
Creation questions of activation dielectric materials of optimum concentration of copper (I) in without palladium solutions are considered.





