Растворный способ получения тонких пленок La2Zr2O7 на подложке из сплава Сu(68.4%)Ni(30.0%)Fe(1.6%)

Растворный способ получения тонких пленок La2Zr2O7 на подложке из сплава Сu(68.4%)Ni(30.0%)Fe(1.6%)

Россия, МГУ имени , kharchenko.andrey@

Двумерные материалы (или пленки) сегодня используются повсеместно: как в быту, так и в составе сложных инженерных устройств. Применение «пленочных» технологий не просто позволяет уменьшить размер, но и получить принципиально новые соединения, обладающие уникальными свойствами. Примером последних служат текстурированные высокотемпературные сверхпроводники (в составе ВТСП-лент второго поколения [1]) и двумерные структуры, в которых реализован эффект эпитаксиальной стабилизации (оксид с температурным переходом «металл-диэлектрик» SmNiO3 [2] и др.).

Методы получения пленок разделяют на физические и химические. Химические являются более вариативными и низкоэнергетическими. Это позволяет использовать их для детального изучения закономерностей, которые сопровождают процесс образования пленки оксидной фазы, как из газа (CVD, Chemical Vapor Deposition, химическое нанесение из пара), так и из жидкости (CSD, Chemical Solution Deposition, химическое нанесение из раствора).

В работе выбран химический метод нанесения в приложении к получению протяженных пленок. Для этого, помимо химической основы, необходимо рассмотрение течения жидкости, которое изучено в общем виде для процесса dip coating [3]. В качестве объекта выбран компонент ВТСП-ленты второго поколения – тонкая пленка текстурированного оксида La2Zr2O7 на поверхности подложки из перспективного сплава Сu(68.4%)Ni(30.0%)Fe(1.6%) (массовые проценты) [4]. Выполнен весь путь получения ВТСП-ленты второго поколения: от получения и изучения металлического сплава до нанесения буферного слоя и высокотемпературного сверхпроводника.

Список литературы:

1) Токонесущие ленты второго поколения на основе высокотемпературных сверхпроводников. Под ред. еревод. с англ. под ред. / М.: ЛКИ. 2009. 397 с.

2) Makarevich A. M., Kharchenko A. V., Mankevich A. S., Tsymbarenko D. M., Korsakov I. E., Grigoriev A. N. / Thin Solid Films. 2010. V. 518. P. 4696-4700.

3) Groenveld P. Dip-coating by withdrawal of liquid films. / Graad van Doctor in de Technische Wettenschappen ann de Technische Hogeschool Delft. Delft. 1970. P. 121.

4) / ЖТФ. 2015. Т. 85. №3. С. 73-83.

Выражение благодарности:

1) консультанту к. х.н., доц. ;

2) РФФИ за поддержку посредством гранта №16-03-00981 на тему «Закономерности твердофазной эпитаксии при кристаллизации аморфных оксидных пленок».