РОССИЙСКАЯ ФЕДЕРАЦИЯ | (19) | RU | (11) | 2517796 | (13) | C1 |
(51) МПК H01S3/038 (2006.01) | ||||||
(12) ОПИСАНИЕ ИЗОБРЕТЕНИЯ К ПАТЕНТУ
|
(21), (22) Заявка: 2012143221/28, 09.10.2012 (24) Дата начала отсчета срока действия патента: Приоритет(ы): (22) Дата подачи заявки: 09.10.2012 (45) Опубликовано: 27.05.2014 (56) Список документов, цитированных в отчете о Адрес для переписки: | (72) Автор(ы): (73) Патентообладатель(и): |
(54) УСТРОЙСТВО ДЛЯ ФОРМИРОВАНИЯ ОБЪЕМНОГО САМОСТОЯТЕЛЬНОГО РАЗРЯДА
(57) Реферат:
Изобретение относится к квантовой электронике. Устройство для формирования объемного самостоятельного разряда (ОСР) содержит разрядную камеру, в которой установлены подключенные к источнику накачки три электродные пары, каждая из которых состоит из пластинчатых профилированных электродов. Каждая пластина катода расположена в плоскости соответствующей пластины анода, при этом электродные пары установлены либо параллельно продольной оси камеры, либо под острым углом к ней. Рабочая кромка центральных катодных пластин содержит расположенный по центру прямолинейный участок, к которому с обеих сторон примыкают участки с профилем Степперча. Рабочая кромка центральных анодных пластин имеет дугообразную форму и обращена выпуклостью в сторону разрядного промежутка. Участки рабочих кромок крайних анодных и катодных пластин, обращенные к центральным электродам, повторяют профиль рабочей кромки соответствующих анодных и катодных центральных пластин. Внешние участки рабочих кромок крайних анодных и катодных пластин имеют дугообразную форму и большую длину, чем участки рабочих кромок крайних анодных и катодных пластин, обращенные к центральным электродам, причем все участки рабочих кромок имеют плавное сопряжение. Технический результат заключается в обеспечении возможности формирования однородного ОСР между всеми парами электродных пластин в различных газовых средах. 6 з. п. ф-лы, 3 ил.

Устройство относится к квантовой электронике, а именно к устройствам для формирования объемного самостоятельного разряда (ОСР). Особенно предпочтительно использовать заявляемое устройство в электроразрядных импульсно-периодических лазерах с накачкой объемным самостоятельным разрядом в активных средах УФ и ИК лазеров на основе XeCl, XeF, KrF, ArF, CO2, HF и др. Устройство также может быть использовано для решения плазменно-химических задач.



