Захват и удержание кислорода и дейтерия в CFC при облучении в дейтериевой плазме с примесью кислорода

, ,

Научный руководитель – , д. ф-м. н., профессор

Московский инженерно-физический институт  (государственный университет)

ЗАХВАТ И УДЕРЖАНИЕ КИСЛОРОДА И ДЕЙТЕРИЯ
В CFC ПРИ ОБЛУЧЕНИИ В ДЕЙТЕРИЕВОЙ ПЛАЗМЕ С ПРИМЕСЬЮ КИСЛОРОДА

В работе проведены исследования по выяснению зависимостей захвата кислорода и дейтерия при облучении образцов из CFC в плазме дейтериевого разряда с примесью кислорода.

В работе изучались зависимости захвата кислорода и дейтерия в CFC от энергии облучающих ионов, дозы облучения, от концентрации кислорода в рабочем газе и от степени развитости рельефа поверхности образца.

Захват дейтерия при совместном облучении CFC ионами дейтерия и кислорода зависит от соотношения компонент в облучающем потоке. Захват дейтерия увеличивается в  6 раз по сравнению с облучением чистым дейтерием, при концентрации кислорода в рабочем газе 2%, не изменяется при концентрации около 5.5% и падает в 1.5 раза при концентрации 6.5%.

Сделан вывод о том, что при не больших концентрациях  кислорода в рабочем газе (до 5%) кислород производит активирующее воздействие на поверхность и ускоряет захват водорода из сорбированного на поверхности слоя.

При концентрации выше 5% кислород, по видимому, пассивирует поверхность, сорбция дейтерия уменьшается и в результате уменьшается его захват.

Зависимость захвата кислорода от энергии ионов следует за аналогичной зависимостью для дейтерия, это дает основание полагать, что дейтерий в свою очередь, ускоряет захват кислорода, по видимому, за счет облегчения его проникновения в толщу CFC.

Развитие рельефа приводит к уменьшению захвата кислорода и в тоже время к увеличению захвата дейтерия.