p-GaAs(Cs, O) - фотокатод: области применимости моделей активирующего покрытия.
, ,
L. B. Jones, B. L. Militsyn, T. C. Q. Noakes.
На поверхности p-GaAs, покрытой (Cs, O)-слоем, возникает состояние эффективного отрицательного электронного сродства (ОЭС), благодаря которому вероятность выхода неравновесных электронов в вакуум может достигать ~ 0.5. Попытки описания свойств
p-GaAs(Cs, O) с использованием традиционных моделей, разработанных для описания двухслойных структур, таких как барьер Шоттки, гетеропереход или МДП – структура не дал однозначных результатов. Было предложено несколько альтернативных моделей описания свойств (Cs, O)-слоя, но консенсус достигнут не был. Основными причинами существующих противоречий являются, по-видимому, несовершенство технологий
(Cs, O)-слоёв и методов их исследования. Для устранения противоречий и определения модели (Cs, O)-слоя мы впервые использовали автоматизированную технологию его формирования, обеспечивающую максимальную на сегодняшний день квантовую эффективность (QE) фотокатода. Отметим, что QE пропорциональна вероятности выхода фотоэлектронов (Ре) в вакуум. Используя эту технологию мы провели «синхронные» измерения квантовой эффективности (QE) – фотокатода (т. е. величины Ре) и величины ОЭС (ч*) в зависимости от толщины (иCs) (Cs, O) – слоя. Для оценки эволюции иCs и состава (Cs, O) – слоя в процессе его формирования мы впервые применили такие методики, которые не влияют на атомные процессы на поверхности. Используя новые методики, мы изучили эволюцию QE, ч* и состава (Cs, O) – слоя в зависимости от иCs. Полученные результаты состоят в следующем.
Главный вывод работы состоит в том, что максимальное значение величины Ре ограничиваются в значительной степени отражением фотоэлектронов (Cs, O) – слоем. Поэтому наши дальнейшие исследования будут направлены на повышение степени упорядочения (Cs, O) – диполей. Кроме этого, мы не вполне понимаем физический механизм, «переключающий» актуальную модель (Cs, O) – слоя при увеличении его толщины до некоторого значения.


