ЛЕКЦИЯ 3. БАРЬЕРНАЯ ЕМКОСТЬ p-n - ПЕРЕХОДА
1. БАРЬЕРНАЯ ЕМКОСТЬ p-n - ПЕРЕХОДА КАК ПРОЯВЛЕНИЕ ТОКОВ СМЕЩЕНИЯ
Барьерная емкость p-n - перехода проявляется при приложении к p-n - переходу изменяющегося во времени напряжения. При этом через p-n - переход проходит ток. Та доля тока, которая не связана с движением носителей заряда через p-n - переход, и определяет барьерную емкость.
Поэтому барьерная емкость должна быть связана с прохождением токов смещения. Для одномерного плоского p-n - перехода ток смещения одинаков во всех его сечениях:
,
где S – площадь p-n - перехода, Е – напряженность электрического поля, ε0 – диэлектрическая постоянная, а ε – относительная диэлектрическая проницаемость кристалла полупроводника.
![]() |
Значение тока смещения можно связать с изменением объемного заряда в p-n - переходе. Для этого мысленно выделим в p-n - переходе объем в виде цилиндра, образующие которого параллельны направлению электрического поля (рис.1). Пусть одно основание цилиндра совпадает с плоскостью х=0 металлургической границы между p и n - областями, а другое основание цилиндра лежит за пределами p-n - перехода. Тогда, согласно теореме Остроградского – Гаусса, можно определить поток вектора электрической индукции через поверхность, ограничивающую выделенный объем. Этот поток проходит только через одно основание цилиндра, так как боковые его поверхности параллельны электрическому полю, а второе основание лежит в области, где поле отсутствует. Следовательно,
εε0ES = Q,
где Q – заряд ионизированных примесей.
Ток смещения можно записать теперь таким образом:
,
где U – напряжение смещения, приложенное к p-n - переходу.
Сравнив последнее выражение с обычным выражением для тока через емкость, т. е. с
,
получаем, что в качестве барьерной емкости следует взять
. (1)
Абсолютное значение этого отношения взято потому, что объемный заряд в p-n - переходе может быть положительным и отрицательным, а правило знаков для напряжения выбрано произвольно.
2. ОБЩЕЕ СООТНОШЕНИЕ ДЛЯ БАРЬЕРНОЙ ЕМКОСТИ p-n - ПЕРЕХОДА
Исходя из определения барьерной емкости (1) можно получить общую формулу для барьерной емкости плоского p-n - перехода. Объемный заряд ионизированных примесей в цилиндре, выделенном в p-n - переходе,
,
где N(x) – распределение концентрации примесей вдоль оси х, q= ‑1.6·10–19 Кл – величина заряда иона примеси.
Дифференциал этого объемного заряда можно определить путем дифференцирования по единственной переменной – нижнему пределу интегрирования:
. (2)
Дифференциал падения напряжения на p-n - переходе можно найти, продифференцировав выражение для полного падения потенциала на p-n - переходе (при обратном смещении перехода U<0):
.
Но при этом следует учесть, что переменными являются оба предела интегрирования. Поэтому целесообразно разбить интеграл на два, тогда каждый из них будет иметь по одному переменному пределу:

и
. (3)
Теперь, взяв отношение дифференциалов (2) и (3), получим
.
Для преобразования последнего выражения продифференцируем условие электрической нейтральности p-n - перехода:
,
т. е.
.
Учтем, что d = dp + dn, тогда
. (4)
Таким образом, барьерная емкость плоского одномерного p-n - перехода может быть рассчитана по формуле плоского конденсатора. Такой результат не является очевидным, так как распределение зарядов в плоском конденсаторе и p-n - переходе неодинаково. Причина совпадения формул – в характере изменения объемного заряда p-n - перехода: при изменении напряжения на p-n - переходе заряд изменяется потому, что сдвигаются границы p-n - перехода. Заряды, обусловливающие барьерную емкость, сосредоточены в двух тонких слоях, расположенных на расстоянии d один от другого (рис.2), что очень напоминает поверхностные заряды на металлических обкладках конденсатора.

3. СООТНОШЕНИЯ ДЛЯ БАРЬЕРНОЙ ЕМКОСТИ РАЗЛИЧНЫХ p-n - ПЕРЕХОДОВ
С помощью выражения (4) можно определить барьерную емкость на основе результатов расчета толщины p-n - перехода. Поэтому для резкого p-n - перехода с учетом
,
где Nd – концентрация донорных, а Na – акцепторных примесей, имеем
. (5)
В резком несимметричном p-n - переходе Nd>>Na (с эмиттером электронов) или Na>>Nd (с эмиттером дырок) толщина p-n - перехода определяется в основном толщиной низколегированной базы и формула (5) принимает вид
,
где N – концентрация примесей в слаболегированной базе.
Для плавного p-n - перехода с линейным распределением концентрации примесей с учетом
,
где а – градиент концентрации примесей (обычно его считают постоянным), имеем
.
В общем случае величина барьерной емкости
. (6)
Различные типы распределения концентрации примесей в базе и соответствующая им величина степени n приведены на рис.3.
![]() |
Как видно из полученных результатов, при разных распределениях примесей имеют место разные вольт-фарадные характеристики p-n - переходов. Это дает возможность оценить характер распределения примесей в различных p-n - переходах. Часто применяют также графический метод. Для резкого p-n - перехода вольт-фарадная характеристика оказывается прямой в координатах
Если экспериментальные точки ложатся на прямые в указанных системах координат, то это служит подтверждением принятого при построении характера распределения примесей.
![]() |
Кроме того, вольт-фарадные характеристики дают возможность определить значение контактной разности потенциалов на p-n - переходе. При экстраполяции вольт-фарадной характеристики, построенной в координатах
4. ВАРИКАПЫ
Варикап – это полупроводниковый диод, предназначен для применения в качестве элемента с электрически управляемой емкостью.
Известно, что диод обладает барьерной, диффузионной и паразитной емкостями. В качестве варикапов используют только диоды при обратном смещении, когда проявляется только барьерная емкость. Диффузионная емкость проявляется при прямом смещении диода, когда проводимость его велика и велики потери мощности из-за относительно больших активных токов через диод. Паразитная емкость (емкость корпуса, держателя и выводов) обычно невелика, порядка нескольких пикофарад, она постоянна и не зависит от режима работы.
![]() |
Зависимость барьерной емкости от напряжения смещения различна для варикапов, изготовленных методом диффузии или методом вплавления примесей. В сплавных варикапах с резким p-n - переходом зависимость барьерной емкости от напряжения смещения получается более резкая. Связано это с тем, что глубина проникновения электрического поля в материал зависит от удельного сопротивления этого материала. В сплавном варикапе слои базы, прилегающие к переходу, легированы равномерно, а в диффузионном – при удалении от перехода концентрация нескомпенсированных примесей увеличивается, т. е. уменьшается удельное сопротивление. Поэтому для получения еще более резкой зависимости емкости варикапа от напряжения смещения необходимо создавать в базе варикапа сверхрезкое распределение нескомпенсированных примесей (рис.5).
База варикапа делается двухслойной, как показано на рис. 5 и 6. Тонкий слой базы, прилегающий к p-n - переходу, должен быть высокоомным. При этом напряжение пробоя Uпр по абсолютному значению будет большим и на варикап можно подавать большие обратные напряжения Uобр =(0.7÷0.8)Uпр. Вторая часть базы – подложка – должна быть низкоомной для создания хорошего контакта с металлическим электродом вывода базы.
Основные параметры варикапа
1. Емкость варикапа Св – емкость, измеренная между выводами варикапа при заданном обратном напряжении. Для различных варикапов емкость бывает от нескольких единиц до нескольких сотен пикофарад.
2. Коэффициент перекрытия по емкости Кс – отношение емкостей варикапа при двух заданных значениях обратных напряжений. Значение этого параметра составляет обычно несколько единиц.
3. Добротность варикапа Qв − отношение реактивного сопротивления варикапа на заданной частоте переменного сигнала к сопротивлению потерь при заданном значении емкости или обратного напряжения. Добротность − это величина, обратная тангенсу угла диэлектрических потерь. Добротность варикапов измеряют обычно при тех же напряжениях смещения, что и емкость. Значение добротности – от нескольких десятков до нескольких сотен.






