Оборудование уже внедрено на заводах Китая, производящих логические микросхемы и микросхемы памяти
Компания Shanghai Microelectronics Equipment (SMEE) представила новое поколение установок для сухой литографии на 9-й Китайской международной выставке импортных товаров.
Эта разработка является следующим шагом в реализации китайской программы импортозамещения в области производства полупроводникового оборудования. Платформа основана на собственной стандартизированной архитектуре и поддерживает два технологических процесса — I-line и KrF. Производитель утверждает, что полностью контролирует разработку и поставки ключевых компонентов, включая высокоточные оптические системы, механизмы позиционирования пластин и масок, а также автоматизированные системы перемещения материалов.
По словам компании, качество сопоставимо с показателями ведущих зарубежных аналогов. Точность совмещения слоев и производительность оборудования также достигают международных стандартов. Установки показывают стабильную работу в различных технологических процессах и подходят для длительной эксплуатации на производственных линиях. SMEE сообщает, что их оборудование уже используется на предприятиях Китая, производящих логические микросхемы и микросхемы памяти.
По данным производителя, общий объем обработки на таких установках превысил 10 миллионов кремниевых пластин, а эффективная производительность оборудования составляет более 92%.
Компания SMEE была основана в 2002 году и позиционируется как единственный китайский производитель, способный серийно производить и поставлять установки для сухой литографии.
Источник