Спирт этиловый, порядок нормирования расхода, приемки (стр. 14 )

8

Наименование операции	ТНПА, марка, сорт этилового спирта	Удельная норма расхода этилового спирта, л/25 шт. пластин
Наращивание эпитаксиального слоя на пластины	ГОСТ 18300	0,1500
Химическая обработка пластин	высший сорт	0,0060
Наращивание пленок поликристаллического кремния		0,3260
Химическое травление поликристаллического кремния		0,0060
Обработка стальной оснастки установок ионной имплантации		0,0300
Обработка алюминиевой оснастки установок ионной имплантации		0,0300
Обработка стальной оснастки установок напыления алюминия		0,0300
Обработка оснастки установок наращивания поликристаллического кремния		0,0300

Окончание таблицы Т.8
	Наименование операции	ТНПА, марка, сорт этилового спирта	Удельная норма расхода этилового спирта, л/25 шт. пластин
	Травление кварцевой оснастки		0,0300
	Травление фторопластовой оснастки	ГОСТ 18300	0,0300
	Окисление кремниевых пластин	высший сорт	0,0300
	Нанесение и сушка фоторезистора		0,0300
	Совмещение и экспонирование		0,0030
	Проявление и дубление		0,0330
	Ионное легирование		0,1000
	Диффузия фосфора (загонка)		0,0300
	Термическая обработка (разгонка)		0,0300
	Удаление фоторезистора в кислотно-перекисной смеси	СТБ 1334	0,0060
	Напыление омического контакта	высший сорт	0,0900
	Напыление титана (никеля, молибдена)		0,0900
	Напыление многослойных диэлектрических покрытий		0,0900
	Химическое травление алюминия		0,0600
	Химическое травление титана (никеля, молибдена)		0,0100
	Удаление фоторезистора в органической смеси		0,0060
	Низкотемпературная пассивация полупроводниковых приборов фосфоросиликатным стеклом		0,1500
	Плазмохимическое травление слоев нитрида кремния		0,0200
	Плазмохимическое травление слоев металлосоединений		0,0400
	Получение пленок нитрида кремния, используемых в качестве защитных покрытий при локальном окислении	ГОСТ 18300, высший сорт	0,1500
	Низкотемпературная пассивация полупроводниковых приборов двуокисью кремния		0,1500
	Плазмохимическое осаждение фосфоросиликатного стекла		0,0660
	Удаление фоторезистора плазмохимическим методом		0,0100

Т.9 Удельные нормы расхода технического этилового ректификованного спирта высшего сорта по ГОСТ 18300 при изготовлении фотошаблонов и фотооригинала приведены в таблице Т.9.

9

Наименование операции	Удельная норма расхода этилового спирта, л/м2
группа сложности
1	2	3	4	5	6
Изготовление оригинала методом вырезания	0,0250	0,0250	0,0250	0,0250	0,0250	–
Изготовление контрольного эмульсионного фотошаблона:
промывка	0,0400	0,0450	0,0500	0,0550	0,0600	–
контроль	0,0400	0,0450	0,0500	0,0550	0,0600	–
Изготовление рабочего эмульсионного фотошаблона
контактное копирование	0,0410	0,0470	0,0520	0,0570	0,0630	–
контроль	0,0410	0,0470	0,0520	0,0570	0,0630	–
Изготовление эмульсионного промежуточного фотошаблона:	0,0630 0,0630	0,0830 0,0830	0,1300 0,1300
предварительная обработка
контроль
Изготовление металлизированного промежуточного фотооригинала (ПФО) и металлизированного эталонного фотошаблона:	0,0250 0,1600	0,0320 0,2100
экспонирование	0,0400
контроль	0,0200
Изготовление металлизированного рабочего фотошаблона:	0,1500 0,0500 0,0250 0,1600	0,2000 0,0700 0,0320 0,2100
нанесение фоторезистора		0,2700
межоперационная отмывка		0,0900
экспонирование		0,0400
контроль		0,2500

Т.10 Удельные нормы расхода этилового спирта при изготовлении кварцевых резонаторов приведены в таблице Т.10.