Расчёт ионного тока насыщения (стр. 5 )

Из графика видно, что при увеличении тепловой мощности увеличивается время пребывания выше температуры закалки. Это объясняется тем, что с увеличением энергии теплового источника увеличивается мощность излучения, а, следовательно, повышается температура обрабатываемой поверхности и материал дольше находится выше температуры закалки.

3.5 Построение зависимостей изменения глубины зон проплавления, закалки и отпуска в зависимости от параметров обработки

На основании построенных кривых термического цикла (рис. 3.2 - 3.8) была получена зависимость изменения глубины зоны проплавления, закалки и отпуска от величины тепловой мощности источника тепла (рис. 3.10 -3.12).

Рисунок 3.11 - Зависимость изменения глубины зоны проплавления, закалки и отпуска от величины тепловой мощности источника тепла.

3.6 Вывод

По полученным графикам видно, что с увеличением мощности излучения источника нагрева, увеличивается ширина зоны проплавления, закалки и отпуска. А при увеличении скорости перемещения источника тепла ширина зон проплавления, закалки и отпуска уменьшается, так как источник нагрева при движении не успевает передать достаточного тепла обрабатываемой поверхности, и чем больше скорость движения источника нагрева, тем меньше ширина зон проплавления, закалки и отпуска. Таким образом, глубина зон закалки, отпуска и проплавления уменьшается настолько быстрее, насколько быстрее увеличивается скорость движения источника нагрева.

Список литературы

1. , Проектирование технологических процессов электрохимического и комбинированных методов обработки поверхностей деталей двигателей летательных аппаратов. Учебное пособие. Куйбышев, 1985 г.

2. . Технология вакуумного ионно-плазменного нанесения покрытий. Учебное пособие: УГАТУ, Уфа. 1993 г. - 74 с.

3. , , . Технология вакуумной ионно-плазменной обработки. Учебное пособие. Москва.2007 г. 

4. , , Бор, его соединения и сплавы. Киев: Изд-во АН УССР, 1960. 470 с.

5. Основы лазерной обработки материалов. М.: Машиностроение, 1989 г. – 304 с.

6. . Физические основы вакуумно-плазменной технологии нанесения покрытий: Учебное пособие. УГАТУ, Уфа, 1993 г.

7. , , Электрохимическая размерная обработка материалов в машиностроении: Учебное пособие /, , ; Уфимск. Гос. Авиац. Ун-т. – Уфа, 2004.- 258 с.

8. , , Электрофизические и электрохимические методы обработки материалов. Учебное пособие (в 2-х томах). Обработка материалов с применением инструмента / под ред. .-М.: Высш. шк., 1983 г.

Приложение 1

Ионный ток насыщения,
Толщинас двойного слоя, лD
Поток ионов метала,
Поток молекулярного газа,
Энергия, выделяемая на поверхности конденсации за единицу времени, Дq
Количество газа, вступившего в реакцию с металлом, nx
Содержание неметалла в соединении, Cx	1
Пороговое значение потенциала подложки, Uпкр

Результаты расчётов при электрохимической обработке

Приложение 2

Результаты расчётов при вакуумной ионно-плазменной обработке

Электрохимический эквивалент,
Электропроводность рабочей жидкости, ч	8,1 Ом-1·м-1 .
Скорость анодного растворения,
Величина технологического тока,
Плотность тока,
Минимально необходимая скорость течения электролита, Vэ	1,95 м/c
Необходимый перепад давления,
Расход электролита,
Площадь сечения токоподвода,